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HX系列低溫恒溫循環(huán)器常應(yīng)用于對(duì)半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。并且對(duì)激光裝置發(fā)熱部分的冷卻:激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等起到很大作用。

HX 低溫恒溫循環(huán)器廣泛應(yīng)用于石油.化工，電子儀表，物理，化學(xué)，生物工程，醫(yī)藥衛(wèi)生，生命科學(xué)，輕工食品物性測(cè)試及化學(xué)分析等研究部門(mén)，高等院校，企業(yè)質(zhì)檢及 部門(mén)，為用戶工作時(shí)提供一個(gè)冷熱受控，溫度均勻恒定的場(chǎng)源，對(duì)實(shí)驗(yàn)樣品或 的產(chǎn)品進(jìn)行恒定溫度實(shí)驗(yàn)或測(cè)試，也可作為直接加熱或制冷和輔助加熱或制冷的熱源或冷源。